郝强来到EBL光刻机实验室，指导员工研发7nm EBL光刻机。
项目组某一位技术专家看到董事长到来，眼前一亮，上前跟他汇报：“董事长，您来了。”
“嗯，现在你们碰到什么较难解决的技术问题？”郝强直入话题。
“我自己这边统计了一下，目前有三个最难解决的难题。”这位技术专家娓娓道来，“第一点，分辨率与精度。
7nm级别的光刻需要更高的分辨率和精确度，以确保电路的功能和性能，制造更小的特征需要克服物理和化学限制。”
7nm比14nm，也就意味着使用更小的“画笔”。
设计同样的芯片，所使用的画板（晶圆面积）就更小，即芯片更小，往着更精密的方向发展。
专家看到郝强点头，接着说道：“第二点，图案转移与对准。”
在7nm工艺中，图案转移的准确性至关重要，任何微小的对准误差都可能导致电路功能失效。
精确的对准和图案重叠技术是研发中的难点。
公司在研发EBL光刻机时，已经解决了这个主要问题。
当然，随着技术的提升，要求更高。
原来的14nm EBL光刻机，大部分部件是可以应用在7nm EBL光刻机上面的，但有些零部件需要换成更先进的。
郝强倾听完技术专家的诉说后，耐心地逐一进行讲解。
在一般情况下，技术人员所面临的问题通常不需要他亲自出面解决。
然而，当技术专家们碰到无法克服的难题时，往往是团队也难以应对的复杂问题，这时郝强便不得不亲自出马。
否则，问题的解决将会拖延很长时间，甚至可能导致整个项目的进度受到影响。
集团的员工们都知道董事长工作繁忙，因此很少有人会贸然跑到他的办公室寻求帮助。
然而，郝强此时来到实验室，明显表明了他是为了专门解决技术问题而来。
在实验室的氛围中，浓厚的科研气息弥漫开来，设备的嗡鸣声和团队成员的讨论声交织在一起，创造出一种紧张而充满活力的工作环境。
技术专家刚才看到郝强的身影时，心中不禁生出一丝欣喜。
他原本打算慢慢与团队一道解决这些技术难题，但现在看来，郝强的到来无疑是一个转机。
作为在公司内最受尊敬的领导者，郝强的能力一直是个迷。
他的每一次出手，往往都能快速而有效地找到问题的症结所在，给出最佳的解决方案。
在这个时候，最好的答案似乎恰恰就在郝强身上。
他的到来，无疑为团队注入了强心剂，激发了大家的士气。
仅仅一会儿后，这位技术专家听完郝强的讲解，他就梳理清晰解决方案。
接着，
郝强巡查7EBL光刻机的研发进展。
未来科技集团的光刻机一直以来都笼罩在神秘的面纱之下，外界对其具体类型和技术细节知之甚少。
除了芯片生产部门和研发团队的核心人员之外，集团内其他部门的员工也对这具体技术并不知。
未来科技集团以14纳米工艺制程芯片起步，迅速引起了行业内外的震惊与关注。
这意味着其光刻机具备巨大的潜力，可能在不久的将来实现更先进工艺制程芯片的量产。
这种潜力让竞争对手们心生忌惮，特别是行业巨头ASLM及其他同行，纷纷对未来科技集团的动向感到惊恐。
更令人费解的是，未来科技集团并不打算出售其光刻机，也不透露任何具体信息。
这种低调而神秘的姿态使得外界的猜测和关注愈发浓厚。
许多人开始揣测未来科技集团是否在酝酿一场技术革命，或者在悄然布局一个全新的市场格局。
为了搞清楚这件事，也关乎企业生存，这些竞争对手在过去的时间里想方设法获得未来科技集团的光刻机技术。
拿不到，自然就想破坏。
两天后，
2月1日的早上。
ASLM公司突然在轮敦国际仲裁院（LCAI）对未来科技集团提起诉讼，指控其涉嫌窃取ASLM的EUV光刻机专利技术。
出人意料的是，LCAI竟然迅速受理了这一案件。
这一举动引发了业界的广泛关注。
在桦国，法院收到起诉状后通常会进行严格的审查程序：符合条件的案件会在7日内立案并通知当事人；
不符合条件的，则会出具裁定书，不予受理。
ASLM显然认为向桦国法院提出起诉可能会遭遇阻碍，因此决定绕过这一程序，直接向国际仲裁院提起诉讼。
值得一提的是，国际仲裁机构并非只有LCAI一家。
全球知名的仲裁中心还包括港城、米国、粑黎、薪加坡、哥尔摩等地的中立仲裁机构。
ASLM选择LCAI，或许是看中了其在国际商事仲裁领域的声誉和影响力。
未来半导体公司总经理张博在第一时间向郝强董事长汇报了这一情况。
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